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    一九四七年，贝尔实验室发明第一只点接触晶体管。从此光刻技术开始了发展。

    一九五九年，世界上第一架晶体管计算机诞生，提出光刻工艺，仙童半导体研制世界第一个适用单结构硅晶片。

    一九六零年代，仙童提出CMOS    IC制造工艺，第一台IC计算机IBM360，并且建立了世界上第一台2英寸集成电路生产线，花旗国GCA公司开发出光学图形发生器，和分布重复精缩机。

    一九七零年代，GCA开发出第一台分布重复投影曝光机，集成电路图形线宽从1.5μm缩小到0.5μm节点。

    一九八零年代，美国SVGL公司开发出第一代步进扫描投影曝光机，集成电路图形线宽从0.5μm缩小到0.35μm节点。

    一九九零年代，n一九九五年，Cano着手300mm晶圆曝光机，推出EX3L和5L步进机，ASML推出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。

    光刻技术与我们的生活息息相关，我们用的手机，电脑等各种各样的电子产品，里面的芯片制作离不开光刻技术。

    如今的世界是一个信息社会，各种各样的信息流在世界流动。而光刻技术是保证制造承载信息的载体，在社会上拥有不可替代的作用。

    二零零零年以来，在光学光刻技术努力突破分辨率“极限”的同时，NGL正在研究，包括极紫外线光刻技术，电子束光刻技术，X射线光刻技术，纳米压印技术等。

    与此同时，河兰光刻机巨头阿斯慢，占据了63%的市场份额，产品集中在中高端的极紫外光刻EUV和深紫外光刻DUV上。

    然而在二零零四年前，尼糠是当之无愧的带头大哥，不仅让阿斯慢稳坐屌丝之位，甚至让花旗国这个光刻机技术鼻祖，逐步退出了半导体用光刻机的市场。

    彼时傲娇的尼糠，一直将光刻机作为自己的核心产品，也是让岛国企业引以为傲的“民族之光”，甚至当年能到尼糠从事光刻机的研发，一度成为众多岛国大好青年的愿景。

    再看阿斯慢的基础并不好。从一九八四年诞生后的二十年，阿斯慢就一直是一个谜一样的存在，没有什么人会觉得。阿斯慢能够有什么未来，甚至包括他们自己。

    早期的阿斯慢，生存无望只能四处认干爹，最终只有飞利甫动了恻隐之心，在总部大厦旁边垃圾桶旁的空地上，给阿斯慢弄了几个简易厂房，房地产工地上的那种。

    最骚的是，飞利浦也没打算给什么钱，阿斯慢除了要饭没干过，基本上上门推销、蹲点、抢单。

    反正你能想象到的销售手段，阿斯慢全部都用过，能活二十年，全靠日积月累出来的“销售手艺”。

    魔幻的是，这点“手艺”居然成为了日后阿斯慢登顶的关键。
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